




關于環(huán)保溶劑型清洗劑和環(huán)保水基型清洗劑的比較說明
眾所周知,當前工業(yè)清洗劑主要分為溶劑型和水基型兩種,那么在實際應用中它們又有哪些區(qū)別呢?
1、 環(huán)保方面:
碳氫清洗劑屬于ODS類物質,對大氣臭氧層有破壞作用,屬于環(huán)??刂莆镔|,水基溶劑是環(huán)保的、無毒的,可直接排放。
2、 設備方面:
水基型清洗后要用純水漂洗,并需烘干,用電量稍大一些,同時占地面積相對較大,設備成本也對較高。機電設備清洗劑清洗后能自然發(fā)揮,工位相對較少,耗電量約低于水基清洗設備,它的占地面積相對較小。
3、 清洗效果方面
碳氫清洗劑采用的是直接溶解所以超聲波清洗速度快,周期短,效果直接,徹底。水基清洗是采用洗劑替換的方式,并且是兩次替換(次是溶劑替換油污等雜質,第二次是純水替換溶劑),替換后還需要烘干,故相對清洗時間較長,但水基清洗后沒有殘留問題。
4、 使用成本方面
環(huán)保溶劑型清洗劑使用原液清洗, 雖然可以重復使用,但由于其高揮發(fā)性,及產(chǎn)品的粘附性,其用量十分大。水基溶劑均是兌水使用,單價雖然約高于有機1溶劑,但用量小。水基漂洗需用純水,但純水的制水成本較低。
綜上所述,兩種清洗均能達到清洗效果,水基清洗的使用成本低,安全、環(huán)保。但設備復雜,溶劑型清洗劑清洗速度快、揮發(fā)快。
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溶劑純化
市售的有機1溶劑有工業(yè)、化學純和分析純等各種規(guī)格。在另一示意性實施例中,該系統(tǒng)包括出口、真空源以及和真空源、惰性氣體源相連的第二閥,該閥用于控制向出口提供的真空和惰性氣體流動。在有機1合成中,通常根據(jù)反應特性來選擇適宜規(guī)格的溶劑,以便使反應順利進行而又不浪費試劑。但對某些反應來說,對溶劑純度要求特別高,即使只有微量有機1雜質和痕量水的存在,常常對反應速度和產(chǎn)率也會發(fā)生很大的影響,這就須對溶劑進行純化。 這種情況下,就需對溶劑進行純化處理,以滿足實驗的正常要求。
溶劑凈化系統(tǒng)配件特色
與傳統(tǒng)的蒸餾技術相比,它使得工作人員不再冒著受傷的風險,也沒有損毀實驗室的風險。
提供安全,簡單的方法去干燥溶劑,去氧化溶劑,廣泛用于:芳烴,脂肪烴,醚類,胺,酒精和其它常見溶劑。
使用經(jīng)濟,占用空間小,是大型溶劑凈化系統(tǒng)的理想替代產(chǎn)品。
真空器件
可選配件
手套盒,玻璃適配器,收集燒瓶,真空源
溶劑純化裝置的簡單使用步驟
溶劑純化裝置組成有溶劑瓶,泵,氮氣裝置等,簡單操作如下:
1 放溶劑,開泵;2 通氮氣;3 抽真空;4 重復2、3步約3-4次;5 通氮氣加壓,放溶劑;6 針筒取溶劑
性能特點;
可根據(jù)用戶需求同時處理 1-10 種溶劑純化設計有多種安全保護措施純化效果優(yōu)異,可將水 氧脫除至低 ppm 級五通閥設計,可單手操作,簡單易懂外觀設計美觀大方純化柱采用外漏式,更換非常簡便填料可自行再生,使用成本極低溶劑接口備有多種連接方式與溶劑接觸部位全部采用不銹鋼,可靠耐用。一是空氣中的水分進入油墨小型印刷機,勢必造成溶劑的綜合揮發(fā)性變差。
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